HV MOS
BSIM3-based High Voltage Compact Model
HiSIM HV
Surface Potential Based HV and LDMOS Compact Model
BSIM3v3.2.4
Industry Standard
Sub-0.13 Micron
MOSFET Model
BSIMMG
Berkeley Common Multi-Gate Transistor Model
BSIM4v4
Industry Standard
Sub-0.13 Micron
MOSFET Model
EKV
Low Power MOSFET Model
HiSIM
Surface Potential- Based MOSFET Model
Mextram
General Purpose Bipolar Model
Mosvar
PSP-Based MOS Varactor Model
UOTFT
Universal Organic TFT Model
VBIC
Advanced BJT and HBT Model
HiSIM
表面ポテンシャル・ベースのMOSFETモデル
次世代CMOSモデル
HiSIMは、広島大学とSTARC (半導体理工学研究センター)の産学連携で開発された画期的なCMOSモデルです。
HiSIMは、ドリフト-拡散近似を採用し、チャネル内の表面ポテンシャルを正確にモデリングします。
従来のMOSFETモデルでは、多くの場合、異なる動作モード間で特性を平滑化するために、非物理的パラメータが利用されていました。これに対し、HiSIMが使用するのは、すべての動作モードに渡って有効な、1組の方程式のみです。
したがって、必要なパラメータは物理的パラメータのみとなります。以上により、HiSIMは、MOSFETデバイスを高精度にモデリングするだけでなく、モデリングに必要なパラメータ数も削減します。
HiSIMパラメータの特長
- 主要パラメータ間に相互依存関係なし
- パラメータ抽出が容易
- I-V特性のモデル化が、たった19個のパラメータで可能
- 導関数が、全動作範囲で連続
- すべてのチャネル長/チャネル幅に対して、1つのパラメータ・セット
物理的効果
HiSIMは、以下の効果を考慮しています。
- 短チャネル効果
- 逆短チャネル効果
- ポケット注入
- 狭チャネル効果
- 量子効果
- ポリゲート空乏効果
- ユニバーサル・モビリティ
- チャネル長変調
- 速度オーバーシュート
- VDS=0における対称性
- 温度
- イントリンシック容量、オーバーラップ容量、フリンジ容量
|
- 1/fノイズ
- 熱ノイズ
- 誘導ゲート・ノイズ
- ノイズ相関
- ゲートのリーク電流
- GIDL
- 基板のリーク電流
- 接合電流および接合容量
- STI (shallow trench isolation)効果
- 非準静的効果
|
ゲートのイントリンシック容量vs. VGS
=f(VD)特性

ID=f(VD)特性
回路シミュレーション例
HiSIMのシミュレーションは、(BSIM4を超える)高精度で、かつ、非常に高速です。
HiSIMは、精密なアナログ回路のシミュレーションをはじめとする、幅広い用途に利用できます。特に、超大規模(100万トランジスタ超)の回路シミュレーションに最適です。
HiSIMの収束特性は、他の商用CMOSモデルと比べて桁違いに優れています。
 |
 |
例1 : 高精度なHiSIMシミュレーション |
例2 : DAC 90nm 回路機能 |
例3 : 2k RAM回路
SILVACOのインプリメンテーション
- HiSIMは、高速性実現のために、VZEROおよびBYPASSオプションに対応
- HiSIMは、並列コンピュータ・アーキテクチャに対応
- 収束問題の検出に非常に役立つ、内部的な警告メッセージや診断メッセージ
- デバイスの内部変数(電流、コンダクタンス、電荷など)も、他のパラメータと同じように容易にアクセス可
- HiSIMモデルは、製品群から独立したモデル・ライブラリであるModelLibの一部
2007年12月1日現在
Rev.101807_04