シルバコ・ジャパン ： SILVACO Japan

ATHENA

プロセス・シミュレーション・フレームワーク

ATHENAフレームワークは、プロセス・シミュレーション・モジュールをシルバコのTCADインタラクティブ・ツールで構成する使いやすい環境に統合します。ATHENAはスタンフォード大学で開発された世界的に有名なシミュレータSUPREM-IV を進化させたもので、多数の教育/研究機関や企業の開発者の方々との共同開発で、多くの新しい性能が付加されています。ATHENAは、イオン注入、拡散、酸化、エッチング/デポジション、リソグラフィ、ストレス形成およびシリサイド化など、半導体産業で使用されるプロセスをシミュレートするための便利なプラットフォームです。

主な特徴

• CMOS、バイポーラ、SiGe/SiGeC、SiC、SOI、III-V、オプトエレクトロニクス、MEMS、およびパワー・デバイスなどのテクノロジに対して使用する重要な製造ステップすべてを高速に、そして正確にシミュレーション
• さまざまなデバイスにおける、多層構造、ドーパント分布、ストレスを正確に予測
• 高度なシミュレーション環境で次のことが実現
  • 一連のレイアウト・マスク情報の自動取り込みなど、プロセス・フローのインプット・デッキを容易に作成または修正可能
  • 自動およびユーザ定義によるメッシュ生成および制御
  • 2次元の構造と分布、ならびに1次元の断面をインタラクティブにプロット
  • 重要なプロセス・パラメータおよびデバイス・パラメータのランタイム抽出
  • プロセス・フローの最適化およびモデル・パラメータのキャリブレーション
• 物理学の博士号を持ったエンジニアで構成されるTCAD専門のサポート・チームが、新しい半導体テクノロジに対するモデルを常に開発
• 費用がかさむウェハの実験をシミュレーションに置き換えることで、テクノロジ開発サイクルを短縮、そして歩留まりを向上
  
• お客様とサード・パーティ企業の大切な知的財産を守る、シルバコの強力な暗号化技術を利用可能

2010年10月22日現在
Rev.101410_21