SSuprem4

SSuprem4は、半導体業界で製造テクノロジを設計、解析、最適化するために広く使用されている2次元プロセス・シミュレータです。 SSuprem4には、拡散、イオン注入、酸化、エッチング、デポジション、シリサイド化、エピタキシ、およびストレス形成などの広範囲な物理モデルが含まれています。これらのモデルにより、最新テクノロジにおけるすべての主要なプロセスを正確にシミュレートできます。SSuprem4を、 ATHENAフレームワーク内でフォト・リソグラフィ・シミュレータOptolith、物理エッチング/デポジション・シミュレータElite、およびモンテカルロ法による高度なイオン注入モジュールMC Implantと完全に統合させて使用することができます。

2009年10月28日現在
Rev.051908_10