VICTORY PROCESS

3次元プロセス・シミュレータ

VICTORY PROCESSは汎用3次元プロセス・シミュレータです。一連のプロセス・フローを網羅するコア・シミュレータと、モンテカルロ法による注入、先進的な拡散/酸化、および物理エッチング/デポジションの3つの高度なシミュレーション・モジュールで構成されています。モデリング・インタフェース機能を使用することで、独自のモデルや一般公開されている研究モデルを容易に取り込めます。

主な特徴

  • 基板材料の再デポジションを考慮した物理デポジションとエッチングのための精巧な多重粒子および流束モデル
  • 正確さ、高速性に優れたモンテカルロ法によるイオン注入シミュレーション
  • 広範囲に渡る3次元拡散モデル(Fermi、3-stream、5-stream)
  • ストレス解析を含む物理的な3次元酸化シミュレーション
  • 3次元構造の高速プロトタイピング機能で、プロセス問題を詳細に物理解析可能
  • 3次元形状、および3次元不純物分布を正確に予測
  • 自動メッシュ生成、および適応性のあるメッシュ細分化機能
  • モンテカルロ法による注入や、拡散、酸化、および物理エッチングとデポジションの処理をマルチスレッドで効率的に実行
  • オープンアーキテクチャ採用で、カスタマ独自の物理モデルを容易に導入/修正
  • 構造のミラーリング、不純物注入に対応する適切な細分化、電極設定を含む3次元デバイス・シミュレータとシームレスに接続

2010年3月29日現在
Rev.032310_11

VICTORY
プレゼン資料

VICTORY PROCESS
Full Physical 3D Semiconductor Simulator
11.5 MB


Token-Based Licensing MultiCore Licensing