Lite-On Semiconductor、パワー・デバイスの開発にシルバコのTCADを標準採用

2006年4月24日

商業用TCAD(Technology Computer Aided Design)ソフトウェアのリーディング・ベンダであるシルバコ・インターナショナル(以下シルバコ)は本日、イメージ・センサおよびディスクリート・パワー・デバイスの大手製造企業であるLite-On Semiconductor Corporation(以下LSC)社が、次世代パワー・デバイスの開発に向けシルバコのTCADプロセス/デバイス・シミュレーション・ソフトウェアを標準採用したことを発表しました。

「我が社がシルバコのTCADソリューションを選んだ理由は、その広範な機能、信頼できるパフォーマンス、経験豊かなサポート、正統派のビジネス・モデル、そして将来を明確に見据えたスタンフォード・ベースの開発ロードマップを高く評価したからだ」と、LSC社Discrete and Analog部門のExecutive VPを務めるC.C. Chen氏は述べています。 「シルバコのTCADソフトウェアを使えば、我々がかつて使用していたスタンフォード・ベースのモデル・パラメータを再合わせ込みすることなく、我々の既存のプロセスやデバイスをシミュレートすることができる。」

シルバコは、最新の物理モデルに基づく先進のTCADテクノロジを適用したプロセス/デバイス・シミュレーションを提供します。 シルバコのTCADソフトウェアは、MOSプロセス/デバイス、SOI、パワー・デバイスそしてセンサー等の光半導体、ディスプレイ・パネル、LED、半導体レーザなどの開発に利用されています。そして現在、多くのTCADユーザが他社製ツールからシルバコのTCADへと移行し始めています。それはシルバコのTCADが高度なテクノロジを誇るだけではなく、ユーザが長年築き上げた設計資産、シミュレーション・フロー、およびソフトウェアに関する知識や経験を活かすことができる唯一のTCADソフトウェアだからです。

シルバコのTCADソフトウェアについて

ATHENA2次元プロセス・シミュレーション・フレームワーク は、プロセス・エンジニアやインテグレーション・エンジニアによる半導体製造プロセスの開発および最適化を可能にします。 ATHENAでは、操作性と拡張性に優れたモジュール型のプラットフォームで、半導体材料のイオン注入、拡散、エッチング、デポジション、リソグラフィ、酸化、およびシリサイド化に対するシミュレーションを実施できます。 ATHENAは、コストの高い試作を仮想シミュレーションに置き換えることにより、開発期間の短縮と歩留まりの向上を実現します。

ATLAS2次元、3次元デバイス・シミュレーション・フレームワークは、デバイス・テクノロジ・エンジニアによる半導体デバイスの電気的特性、光特性、温度特性に対するシミュレーションを可能にします。 ATLASでは、操作性と拡張性に優れた物理ベースのモジュール型プラットフォームで、半導体をベースとしたあらゆるテクノロジのDC/AC/時間領域特性を、2次元および3次元で解析することができます。

Virtual Wafer Fabは、実際のウェハ製造工程を自動化し仮想的に再現する、統合TCADソフトウェア環境です。 Virtual Wafer Fabでは、TCADシミュレーションの入力、実行、実行中の最適化、および結果処理を1つのフローとして統合することにより、スムーズなシミュレーション操作を実現します。このシミュレーション・フローは、統合ツール間で共通のデータベースを介して管理されます。

シルバコ・インターナショナルについて

シルバコ・インターナショナル(本社:カリフォルニア州サンタ・クララ)は、1984年に設立されたTCADシミュレーション・ソフトウェアのリーディング・ベンダです。 その地位は1987年以来変わることなく維持され、また最近では、TCAD関連の研究開発により深く専念できる環境を確立するため、回路シミュレーション、寄生素子抽出およびIC CAD部門をSimucad Design Automation社として独立させています。 シルバコはスタンフォード・ベースの実証済みTCADソフトウェアを経験豊富なサポートやエンジニアリング・サービスとともに提供することで、半導体プロセス/デバイス・シミュレーションに対する完成度の高いソリューションを実現します。 その顧客は、広範なモデル・サポート、最高の精度、そして最適なパフォーマンスを求める業界大手のファブレスやIDM(統合半導体製造企業)、教育機関、半導体設計者など、世界中に広がっています。

本件に関してのお問い合わせ:
jppress@silvaco.com