MaskViews

レイアウト・エディタ

MaskViews™は、使いやすい強力なレイアウト・エディタです。GDS2またはシルバコ独自のフォーマットのレイアウト・ファイルを読み込み、書き込み、作成、編集することができます。MaskViewsには、シルバコの3次元寄生素子抽出ツールだけでなく、プロセス・ツールや光リソグラフィ・ツールと強力に連携する数多くの機能が搭載されています。

特徴

  • シンプルかつ直感的なGUIインタフェース。
  • 標準GDS2またはシルバコのレイアウト・フォーマットをインポート/エクスポート。
  • レイヤのテクノロジ・ファイルの制約を受けないので、シルバコのレイアウト・フォーマットを使用するとマスク層に直接名前を付けることが可能。
  • プロセス・シミュレーション、光リソグラフィ・シミュレーション、寄生素子抽出シミュレーションのツールと連携。
  • カットライン機能により、Athenaの2次元プロセス・シミュレーションにエクスポート可能。
  • カットライン機能により、プロセス・シミュレーション用のメッシュを自動生成可能。
  • マスク層全体または各々のマスクに対してマスク透過率および位相シフトの属性を指定可能。
  • リサイズ、カット、コピー、移動回転など、通常のレイアウト操作機能を搭載。
見やすく直感的なGUIインタフェース

使用用途

  • 2次元プロセス・シミュレータであるAthenaに直接エクスポートするためのカットライン断面ファイルを作成。
  • 光リソグラフィ・モジュールであるOptolithで使用するために各マスク層に位相および透過率データをタグ付け可能。
  • 完全な3次元寄生ソルバであるCleverと連携しているので、ユーザが生成したテクノロジ・ファイルをデバッグするためにCleverによって自動生成された仮想マスクおよび電極を表示可能。
  • Cleverで使用するための2次元表面または1次元電極を生成、追加可能。
  • GDS2、CIF、シルバコ・フォーマットのレイアウト・ファイルに対するスタンドアロン・ビューアー/エディタとしてMaskViewsを使用可能。
  • シルバコのレイアウト・フォーマットでファイルを作成または保存した場合、任意のレイヤ名を使用することができ、GDS2と比べてより明確なレイアウトを作成可能。
任意の形状を編集することができます。

利点

  • この直感的なツールにより、マニュアルを参照する必要がほとんどなく、ほぼ即時にマスク・レイアウトを設計および変更することが可能です。
  • MaskViewsには、Athena用グリッドの自動生成など数多くの特殊な機能が含まれています。このシンプルかつパワフルなツールは、シルバコのデザイン・フローに組み込まれます。
この図は、シルバコのOptolithと共に使用した場合のマルチフィンガー・テストパターンの180°位相シフトを示しています。
すべてのマスク操作を容易に実行することができます。
ATHENA 2D Process Simulator ATHENA - 2D Process Simulator ATHENA 2D Process Simulator

Rev.062613_02